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OpticStudio 16.5 新發布研討會

  2016 年 9 月 28 日,星期三

OpticStudio 16.5 帶來了分析雜散光分析的新工具,模擬螢光效應的新方法,以及大量有用的強化。

在這個研討會中,我們將討論:

  • 非序列幾何 MTF 分析
  • 螢光效應強化
  • 在 Coordinate Break 與序列面的 Tilt/Decenters 之間切換的工具
  • Bernhard Halle 材料庫
  • ZOS-API 互動外掛
  • Layout 圖表視窗的新更新設定
  • CAD 輸出考慮 Mechanical Semi-Diameter


關於講者:
Kristen Norton 作為一個資深工程師,在 2014 年時加入 Zemax,在加入 Zemax 之前有兩年的雷射 & 光學工程師工作經驗。2011 年時,她在威廉米特大學取得物理學士的學位,隨後並透過工業實習碩士學程計畫 (光學路徑),在奧勒岡大學取得她的應用物理碩士學位。對於解決問題非常有天分,Kristen 只花沒多久就被業界認為是 OpticStudio 專家。

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