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如何加速你的公差分析 | OpticStudio

2016 年 6 月 15 日
OpticStudio 提供非常有彈性的公差開發與分析功能。這些公差能力把製造缺陷以及對位錯誤的效應整合到光學設計之中。公差分析可以是光學設計流程中最耗時的部分,花費的時間甚至可能超過其他設計時間的加總!

在這個研討會中,我們將會分享加速公差分析的策略。這包含了如何聰明的選擇設計形式以及如何一步步進行公差分析。我們將會示範以下 OpticStudio 的公差分析功能如何降低整體公差分析的計算時間:
  • 近軸對焦補償
  • 公差快取
  • 多項式敏感度分析

關於講者:

Kristen Norton 作為一個資深工程師,在 2014 年時加入 Zemax,在加入 Zemax 之前有兩年的雷射 & 光學工程師工作經驗。2011 年時,她在威廉米特大學取得物理學士的學位,隨後並透過工業實習碩士學程計畫 (光學路徑),在奧勒岡大學取得她的應用物理碩士學位。對於解決問題非常有天分,Kristen 只花沒多久就被業界認為是 OpticStudio 專家。