有哪些新功能！

新工具能加強處理雜散光並可以模擬多種類的光激發光模型，加上機動性與可操作性的改善讓操作更容易

新的雜散光分析工具協助使用者抓出光學系統中討厭的光線並設計阻擋，讓雜散光的分析更流暢，並使輸出結果更快、更準確、更可靠。現在從生醫、車用照明到其他各種領域中，需要模擬螢光粉跟磷光粉材料的工程師，都可以模更多廣泛種類的材料。可操作性的改良則包含了分析視窗渲染加速。當使用者調整設定時，繪圖視窗 (Layout) 跟陰影模型 (Shaded Model) 顯示速度將有提升。再加上，現在你要把軟體金要從一台電腦移動到另一台時，僅需要兩個步驟就可以完成。最後，此次版本釋出我們也包含了新的 Bernhard Halle 鏡頭目錄、Nikon 材料庫，以及 NHG、Ohara、Zeon、Hoya 等材料的更新。

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光線追跡

• 透過新的非序列幾何 MTF 計算，評估加入機構後，對雜散光的影響。
• 透過新的 ZRD 檔篩選字串，更快的分離關鍵光線，並指定要在光線資料庫中分析的光線數量
• 透過新的篩選字串來限制顯示光線數，以快速顯示 Layout 與 Shaded Model 顯示器中的雜散光路徑。 

光激發光

於 OpticStudio 15 版時，我們加入了螢光粉與磷光粉的模型。現在根據使用者ˇ的反饋，我們在 OpticStudio 16.5 版時擴充了這個模型的能力，現在你可以模擬更加廣泛類型的螢光粉與磷光粉材料。新的功能包括了：

• 透過分離米氏散射與波長位移的效應，使用者能更精確的模擬非散射材料中的光激發光行為。
• 利用新的光激發光平均自由徑設定來調整螢光粉或磷光粉的色溫。
• 利用新的光激發光米氏散射粒子濃度設定來加強角度均勻性並降低不同角度色偏的現象。

可操作性

OpticStudio 16.5 包含許多可操作性的改善，現在你可以：

• 透過更快的分析視窗渲染加強資料視覺化功能。
• 在調整設定時，更快得到繪圖 (Layout) 以及陰影模型 (Shaded Model) 的繪圖。
• 現在 Huygens 計算透過新的相位參考手動控制，而能更簡單、更精確的分析複雜的繞射極限系統
• 只需要兩步驟就能把軟體金鑰從一台電腦中轉移到另一台
• 使用新的 Bernhard Halle 鏡片目錄、新的 Nikon 材料庫，以及更新的 NHG、Ohara、Zeon、Hoya 材料庫。

程式編寫

在 OpticStudio 15 版本中，我們加入了新的應用程式介面 (Application Programming Interface，API) ，其利用 COM/.NET 結構，提供程式橋接。在 OpticStudio 16.5 版本中，我們為 API 加入了更多的彈性與速度：

• 透過新的 ZOS-API 互動擴充模式 (Interactive Extension)，從第三方應用程式連結到啟動中的 OpticStudio 實體。
• 現在讀取光線資料庫的速度提升了 360 倍快，大幅省下透過 API 分析光線資料庫檔案所需的時間。