完整的光學設計,
照明和雷射系統

業界標準的軟體平台支援從頭到尾的設計流程

自動的改善
設計性能

透過快速設定工具、自訂條件限制以及強化的優化工具取代了耗時的手動試誤

確保可製造性
和量產效率

在開始整個設計流程之前,先把製造以及組裝公差整合到設計限制之中

最大限度減少設計錯誤
降低原型試作成本

在單一、無縫的軟體平台中加上精確的建模工具,提供了最精確的模擬結果

OpticStudio

為光學工程設計的最重要的軟體平台,透過直覺的操作界面控制複雜的物理,以及透過互動式介面加快創造能力,與此同時還能降低開發成本。我們的使命核心即是讓光學工程師、研究人員和科學家的設計具有完整可製造性。

ZEMAX 把快速、精確的設計工具組,透過 OpticStudio™ 交到了光學工程師的手中。每個工具組都對應到設計過程中關鍵不可或缺的步驟。其中分析、優化和公差的工具組包含了深度的物理演算法,讓使用者在公差容許規範限制中分析、模擬並優化其光學系統設計。

OpticStudio 的酷炫之處

大量工具與強大功能
OpticStudio 的一個獨特之處是從序列模式無縫轉換到非序列模型的能力,以及從序列模式轉換到物理光學傳播的能力。這種轉換功能是使用者不論是設計光學、照明還是雷射,都可以維持在同一個軟體平台上,而不需要切換,進而節省可觀的金錢與時間成本。

優化變得更加容易
設計製造的的其中一個關鍵步驟是優化系統以確保成本效益。 OpticStudio 能在各種層面上自動化這個過程執行,讓新手工程師可以更方便的操作與理解,而對於資深工程師來說,OpticStudio 的進階工具以及演算法則可以讓他們應付更有挑戰性的設計。

三種公差解決方案,確保製造正確
定義規格容許的變化範圍不只是對於個別元件的品質掌握非常重要,同時也對整體系統是否符合目標應用也非常重要。我們都明白分析當規格偏離設計值時的系統非常重要,但我們很可能沒有足夠的資訊來決定合理上下限應該是多少,或是我們可能不知道當公差超過規定值時,對系統會有什麼影響。在 OpticStudio 中包括了三個專門設計並解決公差問題的功能:了解已知給定的公差對系統的改變;讓 OpticStudio 為你計算公差;模擬所有公差一起被考慮時的系統狀況。
 
 

CAD 整合
對於任何光學和照明設計來說,有一個關鍵且不可避免的需求就是整合外部的 3D CAD 軟體。OpticStudio 旗艦版包括了無縫整合 CAD 軟體的能力,使用者不需要再額外購買任何套件或程式來達成 CAD 軟體的整合。

重點特色:無縫的切換
序列與非序列模型

設計鎖定工具 (Design Lockdown Tool) 會自動執行一系列的連續操作,以讓序列式光學系統準備好可以進行下一步的光機構和以及量產分析。該工具將半直徑轉換為固定孔徑、移除漸暈係數、把像空間視場轉為物空間、移除求解 (sovles) 、把厚度值四捨五入。

關鍵光線組產生工具 會建立一組可以在非序列模式中追跡的參考光線。這些光線在驗證在非序列模式下加入光學機構後的變化時會非常有用。在非序列模式下,我們可以使用關鍵光線追跡工具來使用這些光線。